在高校的微電子、半導體物理實驗中，光刻實驗是必不可少的實驗之一。光刻實驗對環境的潔凈度要求很高，一般高校在沒有財力建設潔凈室的情況下，凈化工作臺成為了進行光刻實驗不可缺鈔少的公要設備。一般來說光刻實驗進行的步驟有∶旋涂光刻膠;光刻膠的前烘;曝光，顯影;后烘等步驟構成。在這些實驗步驟中所涉及的化學藥品較多，而這些化學藥品的溶劑多為苯類披質，如果處理不當將給實驗人員帶來較大的傷害。同時，由于實驗的步驟較多，實驗人員需要頻絜地從凈化工作臺中取、放物品，這將引入大量的灰塵影響工作時的潔凈度。因此，設計一種低成本，有效租隔有毒氣體，提高工作時潔凈度的凈化工作臺顯得十分重要。